พื้นฐานของ Micro และ Nanofabrication

อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เซนเซอร์ และส่วนประกอบทางแสงสมัยใหม่ทุกชิ้นล้วนพึ่งพาศาสตร์อันแม่นยำของ micro และ nanofabrication การเข้าใจว่าโครงสร้างขนาดจิ๋วเหล่านี้ถูกออกแบบและผลิตขึ้นมาอย่างไรนั้น มีความสำคัญอย่างยิ่งสำหรับทุกคนที่ต้องการก้าวเข้าสู่สายงานเซมิคอนดักเตอร์ นาโนเทคโนโลยี หรือวิศวกรรมฮาร์ดแวร์ คอร์สเรียนนี้จะมอบเส้นทางเชิงแนวคิดที่ชัดเจน ตั้งแต่ซิลิคอนดิบไปจนถึงไมโครดิไวส์ที่ทำงานได้อย่างสมบูรณ์ คุณจะได้เปลี่ยนผ่านจากการเข้าใจคุณสมบัติพื้นฐานของวัสดุไปสู่การกุมความเข้าใจในเวิร์กโฟลว์การผลิตใน cleanroom ทั้งหมด ผ่านคำอธิบายรูปแบบการเขียนที่ชัดเจน คุณจะได้เรียนรู้วิธีการเลือกวิธี lithography, deposition และ etching ที่ถูกต้องสำหรับความท้าทายทางวิศวกรรมที่แตกต่างกัน สิ่งที่คุณจะได้เรียนรู้: - เข้าใจฟิสิกส์และเคมีหลักของการเตรียมแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนและสภาพแวดล้อมแบบ cleanroom - เชี่ยวชาญเทคนิค photolithography รวมถึงระบบการฉายแสง (exposure systems), photoresists และขีดจำกัดของความละเอียด (resolution limits) - เปรียบเทียบวิธีการเจริญเติบโตของฟิล์มบางด้วย physical และ chemical vapor deposition - ประยุกต์ใช้หลักการ wet และ dry etching เพื่อสร้างลวดลายบนวัสดุด้วยความแม่นยำสูง - สำรวจเครื่องมือ metrology สมัยใหม่ที่ใช้ในการตรวจสอบและวัดคุณลักษณะระดับนาโนสเกล - วิเคราะห์ลำดับขั้นตอนกระบวนการผลิต (process flows) ในโลกแห่งความเป็นจริงสำหรับอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์พื้นฐาน คอร์สเรียนนี้เริ่มต้นด้วยคำนิยามพื้นฐาน มาตรฐาน cleanroom และเคมีของซับสเตรต เพื่อให้มั่นใจว่าคุณได้สร้างฐานทฤษฎีที่แข็งแกร่ง จากนั้นคุณจะได้ก้าวหน้าผ่านลำดับขั้นตอนทีละขั้นของ lithography, material deposition, etching และการวัดลักษณะเฉพาะ (characterization) ขั้นสุดท้าย คอร์สเรียนรูปแบบข้อความนี้ออกแบบมาสำหรับผู้เริ่มต้นอย่างแท้จริง นักศึกษาวิศวกรรมศาสตร์ และผู้เชี่ยวชาญที่กำลังย้ายสายงานเข้าสู่อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยไม่จำเป็นต้องมีประสบการณ์ใน cleanroom มาก่อน เริ่มอ่านวันนี้เพื่อปลดล็อกพื้นฐานของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และนาโนเทคโนโลยี